Каталог товаров
Выберите модификацию товара.
Изображение
Товар добавлен в корзину.
Изображение товара
Кол-во:
Стоимость: Р-
Итого:  Р-
Товар добавлен к сравнению.

Добавлен к сравнению.

Использовать EUV-литографию Intel не будет даже в рамках 7-нм техпроцесса

17.08.2016

Чтобы поддерживать так называемый "закон Мура" в рамках технологии изготовления полупроводниковых изделий, большинство производителей рано или поздно перейдут на использование литографии со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Поставщики оборудования в лице холдинга ASML утверждают, что говорить о массовом применении EUV-литографии можно будет лишь в рамках 5-нм техпроцесса, который будет освоен не ранее 2020 года. Однако, некоторые клиенты ASML и акционеры, по совместительству, допускают использование EUV-литографии при выпуске 7-нм изделий, и TSMC является одним из таких "передовиков".

На осенней сессии IDF 2016, которая начала работу вчера, как сообщает агентство Bloomberg, руководство Intel подтвердило отсутствие у компании планов по внедрению EUV-литографии не только в рамках 10-нм техпроцесса, но и в рамках 7-нм техпроцесса. Процессорный гигант вообще не будет торопиться с внедрением EUV-литографии до тех пор, пока технология не докажет свою эффективность. Впрочем, Марк Бор (Mark Bohr) выразил надежду, что рано или поздно компания всё же освоит EUV-литографию. Подобная неуверенность в высказываниях представителей Intel вызвала падение курса акций ASML на 3,5%.

Возврат к списку
Корзина 0 Сравнение0 Обратная связь
2311231